一、產品特色

EVG620 NT-掩模對準光刻機系統|接觸式光刻機提供國家的(de)(de)本領域掩模對準(zhun)技術在小化的(de)(de)占(zhan)位面(mian)積(ji)，支持(chi)高達150毫(hao)米晶(jing)圓尺寸。

二、技術數據

EVG620 NT以(yi)(yi)其多功(gong)能性(xing)和(he)(he)可(ke)(ke)靠(kao)性(xing)而著稱，在小的(de)(de)(de)占(zhan)位面積上結(jie)合(he)了先進(jin)的(de)(de)(de)對準(zhun)功(gong)能和(he)(he)優化的(de)(de)(de)總體(ti)擁有(you)成本，提供了先進(jin)的(de)(de)(de)掩模(mo)對準(zhun)技術。它(ta)是光學雙面光刻(ke)的(de)(de)(de)理想工(gong)(gong)具(ju)，可(ke)(ke)提供半(ban)自(zi)動(dong)(dong)或自(zi)動(dong)(dong)配置以(yi)(yi)及可(ke)(ke)選(xuan)的(de)(de)(de)全覆蓋Gen 2解決方(fang)(fang)案(an)，以(yi)(yi)滿足(zu)大批(pi)量(liang)生(sheng)產要求(qiu)和(he)(he)制造標準(zhun)。擁有(you)操作員友好型軟件，短的(de)(de)(de)掩模(mo)和(he)(he)工(gong)(gong)具(ju)更(geng)換時間以(yi)(yi)及高效的(de)(de)(de)球(qiu)服務和(he)(he)支持，使它(ta)成為任(ren)何制造環境的(de)(de)(de)理想解決方(fang)(fang)案(an)。

EVG620 NT或*容納(na)的(de)(de)(de)(de)EVG620 NT Gen2掩模對(dui)準系(xi)統(tong)配備了(le)集成(cheng)的(de)(de)(de)(de)振動(dong)隔(ge)離功能，可(ke)在各種應(ying)用中實現出色的(de)(de)(de)(de)曝光(guang)效果，例(li)如，對(dui)薄而厚(hou)的(de)(de)(de)(de)光(guang)刻膠(jiao)進行(xing)曝光(guang)，對(dui)深腔(qiang)進行(xing)構(gou)圖并形成(cheng)可(ke)比的(de)(de)(de)(de)形貌，以及對(dui)薄而易碎的(de)(de)(de)(de)材(cai)料（例(li)如化合(he)物半(ban)導體）進行(xing)加(jia)工。此外，半(ban)自動(dong)和全自動(dong)系(xi)統(tong)配置(zhi)均支持EVG專有的(de)(de)(de)(de)SmartNIL技術。

三、EVG620 NT-掩模對準光刻機系統特征

1、晶圓/基板(ban)尺寸從小(xiao)到150 mm / 6''

2、系統設(she)計支持(chi)光刻工藝的多功能(neng)性

3、易碎，薄或翹曲的多種(zhong)尺寸的晶(jing)圓處理，更換(huan)時間短

4、帶有間隔墊片的自動無(wu)接觸楔形(xing)補償序列

5、自動原點功能(neng)，用(yong)于對準(zhun)鍵的確居中

6、具有實時偏移校正功(gong)能的動態(tai)對準(zhun)功(gong)能

7、支持新的UV-LED技術

8、返(fan)工分揀晶(jing)圓管(guan)理(li)和靈活的盒式系統

9、自動化系統上的手動基板裝載(zai)功能

10、可(ke)以從半自動版本升級到(dao)全自動版本

11、小化系統(tong)占地面積和(he)設施(shi)要求

12、多用(yong)(yong)戶概念（無限數量(liang)的用(yong)(yong)戶帳戶和(he)程序，可(ke)分配的訪(fang)問權限，不同的用(yong)(yong)戶界面語言）

13、先(xian)進的(de)軟件功能(neng)以及研發與全面生(sheng)產之間的(de)兼容性(xing)

14、便捷處理和(he)轉(zhuan)換重(zhong)組

15、遠程技術(shu)支持和SECS / GEM兼容性

四、附加功能

1.鍵對準

2.紅外對準

3.納米壓(ya)印光刻（NIL）

五、EVG620 NT技術數據

曝1、光源：

汞光源/紫外(wai)線LED光源

2、先進的對準(zhun)功(gong)能(neng)：

手動對(dui)(dui)準(zhun)/原位對(dui)(dui)準(zhun)驗證

3、自動對準：

動態對(dui)準/自動邊緣(yuan)對(dui)準

對準偏移校正算法

4、EVG620 NT產能(neng)：

全自動：一批生產量：每小時180片

全自動：吞吐量對準：每小時140片晶圓

晶圓直徑（基板尺寸）：高達150毫米

5、對準方式：

上側對準：≤±0.5 µm

底側(ce)對準：≤±1,0 µm

紅外(wai)校準(zhun)：≤±2,0 µm /具體(ti)取決(jue)于(yu)基材

鍵(jian)對準(zhun)：≤±2,0 µm

NIL對(dui)準：≤±3.0 µm

6、曝光設定：

真空接觸(chu)/硬接觸(chu)/軟接觸(chu)/接近模式(shi)/彎曲模式(shi)

7、楔形補償：

全自動軟件控制

8、曝光選項：

間隔(ge)曝(pu)光/洪水曝(pu)光/扇區曝(pu)光

六、系統控制

1、操作系統：

Windows

文件共享(xiang)和備(bei)份解(jie)決(jue)方案/無限制 程(cheng)序和參數

2、多語言用戶GUI和(he)支持(chi)：

CN，DE，FR，IT，JP，KR

實時遠(yuan)程(cheng)訪問，診(zhen)斷和故障排除

3、工業自(zi)動化(hua)功(gong)能：

盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，彎曲，翹曲，邊緣晶圓(yuan)處理(li)

納米壓印光刻(ke)技術：SmartNIL