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?新型IQ Aligner NT具(ju)有(you)高(gao)強度(du)(du)和(he)高(gao)均勻度(du)(du)的(de)(de)曝光光學器件(jian)，新的(de)(de)晶圓(yuan)(yuan)處(chu)理(li)硬件(jian)，可(ke)實現(xian)全局多點對(dui)準(zhun)的(de)(de)200mm和(he)300mm晶圓(yuan)(yuan)全覆蓋(gai)范圍以及優化的(de)(de)工具(ju)軟(ruan)件(jian)，從而使生產率提高(gao)了(le)2倍與EVG上一代IQ Aligner相比(bi)(bi)，對(dui)準(zhun)精度(du)(du)提高(gao)了(le)2倍。該系統(tong)超越了(le)晶圓(yuan)(yuan)凸塊和(he)其(qi)他后(hou)端光刻(ke)應用的(de)(de)蕞苛刻(ke)要(yao)求，同時與競爭系統(tong)相比(bi)(bi)，擁(yong)有(you)成本降(jiang)低了(le)30％。

EVG620 NT-掩(yan)模(mo)對準光(guang)刻機系統(tong)EVG ® 620 NT提供國家的本領域掩(yan)模(mo)對準技術在小(xiao)化(hua)的占位面積，支持(chi)高達150毫米晶(jing)圓尺寸(cun)。

EVG610-單面(mian)(mian)、雙面(mian)(mian)光(guang)刻系統 EVG光(guang)刻機EVG®610是一款(kuan)緊湊(cou)型多功能研發系統，可處(chu)理零碎片和大200 mm的晶圓。

EVG6200 NT掩(yan)模對(dui)準光(guang)刻系統 特(te)色：EVG ® 6200 NT掩(yan)模對(dui)準器為光(guang)學雙面光(guang)刻的多功能工具和晶片尺(chi)寸(cun)高達(da)200毫(hao)米。

IQ Aligner 自動(dong)掩模對準(zhun)(zhun)系統 用(yong)于自動(dong)非接觸近距(ju)離(li)掩模對準(zhun)(zhun)光(guang)刻，進(jin)行了(le)處理和(he)優化，用(yong)于晶圓(yuan)片的尺寸高達200毫米。

研發和小規模生(sheng)產中的(de)單晶圓光刻膠(jiao)(jiao)加工。$nEVG101光刻膠(jiao)(jiao)勻膠(jiao)(jiao)機在單室設(she)計(ji)上可以滿足(zu)研發工作，與EVG的(de)自動化(hua)系統*兼(jian)容。EVG101支持大(da)300 mm的(de)晶圓，可配置為旋涂或噴涂和顯影。